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光固化3D打印

简要描述:光固化3D打印是由摩方精密自主研发的超高精度微尺度3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技术,是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-20
  • 访 问 量:1518

详细介绍

品牌 摩方精密 应用领域 医疗卫生,食品,生物产业,电子,制药
光学精度 2μm 打印材料 光敏树脂
打印层厚 5-20μm 最大打印尺寸 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
光源 UV?LED(405nm)

一、光固化3D打印产品介绍

设备采用面投影微立体光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技术,该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。




二、光固化3D打印基本参数

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等

光学精度:2μm

打印层厚:5-20μm

打印尺寸:

①模式一:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(单投影模式)

②模式二:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)

③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重复阵列模式)

文件格式:STL

系统外形尺寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量:550kg

电气要求:200-240V AC,50/60HZ,3kW


三、应用领域

nanoArch S1302μm精度微纳3D打印系统可广泛应用于力学超材料、生物医疗、微机械结构、微流控、三维复杂仿生结构等领域。

作为微纳3D打印行业,在三维复杂结构微纳加工领域,BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验,针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题,我们将持续提供简易高效的技术支持方案。


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